一、離子清洗機概述

離子清洗（xǐ）機，又（yòu）名等離子清洗機，是通過等離子（zǐ）體中活性粒子的“活（huó）化作用”達到去除物體表麵汙漬的清洗設備。

自1952年以（yǐ）來，“TDC公司”就（jiù）一直給電子行業提供高質量的生產設備，並且由於我們優質的售後服務（wù）和技術支持而獲得極高的聲譽。此外，“TDC公司（sī）”走在世界清洗技術（shù）的前列，生產創新、優質、可靠的（de）產品（pǐn），同時又不對環境造成（chéng）任何不良的影響。Nu/CLEAN型生產線水洗機是當今同類產品市場上最安（ān）全、最安靜、最節能的產品。“TDC公司”還是第一（yī）個生產混合動力水洗機的公司, 供選用的混合動力Nu/CLEAN型（xíng）水洗機因為使用天然氣而不是電能來加熱水洗機裏麵的水而可以大大節（jiē）省能源成本。

Nu/CLEAN型水洗機除了擁有這些技術和環保優勢之外，它（tā）還具有容易使用和保養的特點。觸摸屏控製係統使用起來非常直觀、簡（jiǎn）單，可以（yǐ）控製和監督水洗機的所有重要功能（néng）。警報和保養顯示屏讓操作員能夠馬上知道需要采取什麽措施。水（shuǐ）箱、機櫃以及（jí）控製係統的結構設計（jì）令（lìng）日常保養工作（zuò）既簡單又快捷。

“TDC公司”擁有幾十年的水洗機生產經驗和遍（biàn）布各地的客戶服務網絡，是滿足您清洗要求的最佳選擇。

二、離子清洗機的清洗原理

無機氣體被激發為等離子態→氣相物質被吸（xī）附在固體表麵（miàn）→被吸（xī）附基（jī）團與固體表麵分子反應生成（chéng）產物分子→產物分子解析形成氣相→反應殘餘物脫（tuō）離表麵（miàn）。

三、離子清洗機的清洗特點

1、離子清洗機不分處理對象的基材類型，均可進行處理，如金屬、半導體、氧化物和（hé）大多數高分（fèn）子材料等，並可實現整體和局部以及複雜結構的（de）清洗。

2、容易采用數控技術，自動化程度高。

3、具有高（gāo）精度的（de）控製裝置，時間控製的精度很高。

4、正確的等離子體清洗不會在表麵產生損傷層，表麵質量得到保（bǎo）證。

5、在真（zhēn）空中（zhōng）進行，不汙染環境，保（bǎo）證清洗表麵不被二次汙染。

四、離子清洗機的清洗分類及（jí）性能

離子清洗機主要通過反應類型（xíng）和（hé）激發（fā）頻率兩（liǎng）個方麵來分類。

1、反應類（lèi）型分類

等離子體與固體表麵發（fā）生反應可以分為物理反應（離子（zǐ）轟擊（jī））和化學反應。

1）物理反應機製是活（huó）性粒子（zǐ）轟擊待清（qīng）洗表麵，使汙染物脫離表麵最終（zhōng）被真空泵吸走。物（wù）理反應為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子（zǐ）銑（IM），其優點（diǎn）：本身不發生化學反應，清潔表麵不會留下任何（hé）的氧化（huà）物，可以（yǐ）保持被清洗物的化學純淨性。缺點：對表麵產生了很大的損害，會產生很大的熱（rè）效（xiào）應（yīng），對被清洗表麵的各種不同物質選擇性差，腐蝕速度較低。典型的等（děng）離子體物理（lǐ）清洗工藝是氬氣（qì）等離子體清洗。

2）化學反應機製是各種活性的粒（lì）子（zǐ）和汙染物（wù）反應（yīng）生成易揮發性（xìng）的物質，再由真空泵吸走揮發性的物質。化（huà）學反應為主的等離子體清洗（xǐ）的優點：清洗（xǐ）速度較高、選擇性好、對清除有機汙染物比較有效，缺點：表麵產生氧化（huà）物。典型的（de）等離子體化學清洗工藝是氧氣等離子體（tǐ）清洗。通過等離子體產生的氧（yǎng）自（zì）由基非常活潑，容易與碳氫化合（hé）物（wù）發生反（fǎn）應，產生二氧化碳、一氧化碳和水（shuǐ）等易揮發物，去除表麵的汙染物。

2、激發頻率分類

等離子態的密（mì）度和激發頻率的關係式（shì）： nc=1.2425×108v2 ，其中nc為等離子態密（mì）度（cm-3），v為激發頻（Hz）。 等離子體激發頻率分為：頻（pín）率為40kHz的等離子體（tǐ）為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。超聲等離子體的自偏壓為（wéi）1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，隻有幾十伏。超聲等離子體發生（shēng）的反應為物理反應，射頻等離（lí）子體發生的反（fǎn）應既有（yǒu）物理（lǐ）反應又有化學（xué）反應，微波等離子（zǐ）體發生的（de）反應為化學反應。